|
02562-04-2008-DIG-08-K
[ȸÀýÇѰè(Diffraction limit)¸¦
±Øº¹ÇÏ´Â °íÇØ»óµµ 20³ª³ë¹ÌÅÍ ÇöóÁî¸ó ·»Áî(Plasmon lens) ±¤ÇÐ ½Ä°¢(Optical
lithography) ±â¼ú °³¹ß, ÇöóÁî¸ó Çö»óÀ¸·Î »ý¼ºµÈ º¹»ç(ÀüÀÚÆÄ)¸¦ ÀÌ¿ëÇØ
ÇϳªÀÇ ¹°Áú¿¡ ƯÁ¤ ±â´ÉÀ» ½Ä°¢(carve)ÇÏ´Â ±â¼ú·Î, ÀÌ´Â ÇâÈÄ ±¤ÇÐ ÀúÀå¸Åü³ª
±¤ÇÐ ÄÄÇ»ÆÃ¿¡ ÀÏ´ë Çõ¸íÀ» ¿¹°íÇØ ¶ÇÇÑ Ç°Áú°Ë»ç³ª »ýüÀ̹Ì¡¿¡µµ »ç¿ë °¡´É,
Nature Nanotechnology 2008³â 10¿ù 12ÀÏÀÚ ¿Â¶óÀÎÆÇ(AOP)¿¡ "Flying plasmonic
lens in the near field for high-speed nanolithography(°í¼Ó ³ª³ë½Ä°¢±â¼úÀ»
À§ÇÑ ±ÙÁ¢°Å¸®¿¡¼ ³¯¾Æ ´Ù´Ï´Â ÇöóÁî¸ó ·»Áî)"¶ó´Â ³í¹®À¸·Î ¹ßÇ¥(Lithography
Past Light's Limits. A new optical etching technique could lead to faster
microchips(24/Nov/2008)]
¿À´ÃÀÇ ÁÖÁ¦´Â ȸÀýÇѰ踦 ±Øº¹ÇÏ´Â »õ·Î¿î ÇöóÁî¸ó ±â¼ú¿¡ °üÇÑ ³»¿ëÀÌ´Ù.
¹Ì±¹ ¹öŬ¸®´ë ¿¬±¸¿øµéÀÌ 20³ª³ë¹ÌÅÍ ÃÊÁ¡À¸·Î 20³ª³ë¹ÌÅÍ ¹°ÁúÀ» Åë°úÇÒ ¼ö
ÀÖ´Â ÇöóÁî¸ó ·»Á °³¹ßÇß´Ù. ¶ÇÇÑ ·»Áî¿Í ¹°Ã¼ »çÀ̸¦ 20³ª³ë¹ÌÅͱîÁö Á¢±ÙÇÒ
¼ö ÀÖ´Â °ø±â º£¾î¸µ ±â¼ú±îÁö ¹ß°ßÇß´Ù. µû¶ó¼ ÇâÈÄ ½Ä°¢±â¼ú, ¿µ»ó À̹Ì¡
±â¼ú, °íǰÁú °Ë»ç ±â¼ú, Ç¥¸é ½ºÄ³´× ±â¼ú, Ç¥¸é ÃøÁ¤±â¼ú, ÀúÀå¸Åü ±â¼ú,
±¤Åë½ÅÀ̳ª ±¤ÄÄÇ»ÆÃ ±â¼ú¿¡ ÀÏ´ë Çõ¸íÀÌ µîÀåÇÒ °ÍÀ¸·Î ¿¹°íÇϰí ÀÖ´Ù. ´Ù¼Ò
¾î·Á¿î ³»¿ëÀÌÁö¸¸ µÎ¼¼ ¹ø Àд٠º¸¸é ´ë·«ÀûÀÎ ºñÁî´Ï½º ÅëÂû·ÂÀ» ¾òÀ» ¼ö
ÀÖ´Ù.
-------------------------
[¸ñÂ÷]
1. ȸÀýÇѰè(Diffraction limit)¶õ
2. ÇöóÁî¸ó(Plasmon), Ç¥¸é ÇöóÁî¸ó(Surface plasmon)À̶õ?
3. UC ¹öŬ¸®´ë, ÇöóÁî¸ó ½Ä°¢±â¼ú(Plasmonic lithography)¿¡ µµÀü
4. Æò°¡¿Í ±â´ë
5. ±âÁ¸ÀÇ ·¹ÀÌÀú ½Ä°¢, ±ØÀڿܼ± ½Ä°¢, ÀüÀÚ ºö ½Ä°¢°úÀÇ ºñ±³ ºÐ¼®
6. Á¤¸» ½Ç¿ëÀûÀΰ¡, ÇâÈÄ ¿¬±¸ °úÁ¦
7. ÀÀ¿ë ºÐ¾ß
----------------------------------------
1. ȸÀýÇѰè(Diffraction limit)¶õ
ȸÀýÇѰè¶õ ºûÀÇ ±âº» ¼Ó¼º ¶§¹®¿¡, ±× ºûÀÌ °®°í ÀÖ´Â ÆÄÀåÀÇ 1/2(half
its wavelength, half the wavelength of the light) ÀÌÇÏ·Î ÃÊÁ¡À» ¸ÂÃâ ¼ö
¾ø´Ù´Â °ÍÀÌ´Ù. ÀÌ ¶§ ÃÊÁ¡À̶õ ºûÀ» ÃÊÁ¡Çϸé ÃÊÁ¡ ´ë»óÀÌ µÇ´Â ¹°Ã¼ÀÇ ¿¡³ÊÁö¿Í
ÆÄµ¿ÀÌ ¹Ý»çµÇ°Å³ª, ´Ù¸¥ ÂÊ¿¡¼ ³ª¿À´Â ºûµéÀº ´Ù¸£°Ô º¸À̴µ¥, ÀÌµé ´Ù¸£°Ô
º¸ÀÌ´Â ºûµéÀº ¹Ù·Î ±× ¹°ÁúÀÇ Æ¯Â¡ÀûÀÎ ±¤¼±ÀÌ ³ªÅ¸³ °ÍÀ¸·Î, ÀÌ ±¤¼±(optical
signals)À» ºÐ±¤°è(spectrometer)¸¦ »ç¿ëÇÏ¿© ó¸®ÇÏ¸é ´Ù¾çÇÑ ÈÇй°ÁúµéÀ»
ºÐº°ÇÏ´Â ÇϳªÀÇ ¹æ¹ýÀÌ µÈ´Ù. ÀÌ°Ô ¹Ù·Î 1930³â
³ëº§ ¹°¸®ÇлóÀ» ¼ö»óÇÑ Chandrasekhara
Venkata Raman(1888-1970)°¡ 1928³â¿¡ ¹ß°ßÇÑ ¶ó¸¸ È¿°ú(Raman
Effect)ÀÌ´Ù. ±×·±µ¥ ¸¸¾à ¹°Ã¼°¡ ºû ÆÄÀåÀÇ 1/2º¸´Ù ÀÛÀ¸¸é ȸÀýÇÑ°è ¶§¹®¿¡
º¼ ¼ö°¡ ¾ø´Ù´Â °ÍÀÌ´Ù.
¶ÇÇÑ ÃÊÁ¡À» ¸ÂÃ߸é ÃÊÁ¡ÀÌ µÇ´Â ´ë»óÀÇ ¹°Ã¼¿¡ ¼±À» ±ß°Å³ª ½Ä°¢(lithography)À»
Çϰųª Àß¶ó ³»°Å³ª ±× ¹°Ã¼ÀÇ Å©±â µîÀ» ÃøÁ¤ÇÒ ¼ö Àִµ¥, ¸¸¾à ±× ¹°Ã¼°¡
»ç¿ëÇÏ´Â ºû ÆÄÀåÀÇ 1/2º¸´Ù ÀÛÀ¸¸é ȸÀýÇÑ°è ¶§¹®¿¡ º¼ ¼ö°¡ ¾ø¾î ÀÛ¾÷À» ÇÒ
¼ö ¾ø´Ù´Â °ÍÀÌ´Ù. ÀÌ°Ô ¹Ù·Î ±¤ÇÐ ±â¼úÀÇ ÇѰè¿ä µµÀüÀÌ´Ù. Áö³ 100³â°£ ÀÌ¿¡
µµÀüÇÏ´Â ¸¹Àº °úÇÐÀÚµéÀº ±×°£ 2Â÷¿ø¿¡¼ ȸÀýÀÇ ÇѰ踦 ±Øº¹Ç߰ųª ¾Æ´Ï¸é
ƯÁ¤ ÆÄÀå¿¡¼¸¸ º¼ ¼ö ÀÖ´Â ±â¼ú¿¡¸¸ Á¢±ÙÇß¾ú´Ù.
2. ÇöóÁî¸ó(Plasmon), Ç¥¸é ÇöóÁî¸ó(Surface plasmon)À̶õ?
±¤ÀÚ(Photons)´Â ºûÀÇ ÀÔÀÚÀε¥ °ø°£À» ÅëÇØ ¿¡³ÊÁö¿Í Á¤º¸¸¦ ½Ç¾î ³ª¸¥´Ù.
ÀÌ´Â ¹Ù·Î 1929³â ÀüÀÚµéÀÇ ÆÄµ¿¼ºÁú¿¡ ´ëÇÑ ¹ß°ßÀ¸·Î(for his discovery of
the wave nature of electrons")
³ëº§
¹°¸®ÇлóÀ» ¼ö»óÇÑ µåºê·ÎÀÌ(Prince Louis-Victor Pierre Raymond de Broglie)ÀÇ
ÆÄµ¿-ÀÔÀÚÀÇ ÀÌÁß¼º(Wave-Particle Duality) ¶Ç´Â ÀÌÁß¼º¿ø¸®(ì£ñìàõê«×â duality
principle)¿¡ ÀÇÇÑ °ÍÀÌ´Ù.
±×·¯³ª ÀüÀÚ(Electrons)´Â ¿¡³ÊÁö¿Í Á¤º¸¸¦ ½Ç¾î ³ª¸£Áö ¾ÊÁö¸¸ Á¦¾îÇϱⰡ
½±´Ù. ÇöÁ¸ÇÏ´Â ÃÖ÷´Ü ±â¼úµéÀÎ ¿µ»ó À̹Ì¡ ½Ã½ºÅÛ, žç ÀüÁö, Á¤º¸ ³×Æ®¿öÅ©µéÀº
¹Ù·Î ÀÚÀ¯½º·¯¿î ±¤ÀÚ(footloose photons)¿Í Àß Á¦¾îµÇ¾î ÇൿÇÏ´Â ÀüÀÚµé(well-behaved
electrons) °£ÀÇ Á¶Àý¿¡ ÀÇÇØ °¡´ÉÇÑ °ÍÀÌ´Ù. ±×·¯³ª ÀÌµé ±¤ÀÚ¿Í ÀüÀÚ ÀÔÀÚ°£ÀÇ
»óÈ£ÀÛ¿ëÀÌ Ä¿´Ù¶õ µµÀüÀε¥, ¹Ù·Î Ç¥¸é ÇöóÁî¸óÀÌ´Ù.
ÇöóÁî¸ó(Plasmon)À̶õ ¹°Áú ³»ÀÇ ÀüÀÚµéÀÌ µ¿½Ã¿¡ Áøµ¿ÇÏ´Â Çö»óÀ¸·Î ÀüÀÚµéÀÇ
ÆÄµ¿(waves of electrons)À̶ó ºÎ¸¥´Ù. ¿¹¸¦ µé¾î È£¼ö¿¡ µ¹À» ´øÁö¸é Àܹ°°áÀÌ
ÀϾ´Â Çö»ó°ú °°Àº °ÍÀÌ´Ù. Ç¥¸é ÇöóÁî¸ó(Surface plasmon)À̶õ È£¼öÀÇ
Àܹ°°á °°ÀÌ ¹°ÁúÀÇ Ç¥¸é¿¡ ¿¡³ÊÁö ÆÄµ¿(energy waves)ÀÌ ÁýÁߵǴ Çö»óÀε¥,
ÀÌ·¯ÇÑ ÇöóÁî¸óÀ» ÀÏÀ¸Å°´Â ±Ý¼Ó ¹°Áú¿¡ ºûÀ» ½îÀ̸é ÀüÀÚµéÀÇ ÆÄµ¿ÀÌ ÀϾ°í
±× ´ÙÀ½ ÀüÀÚµéÀº ȸÀýÇѰ踦 ±Øº¹ÇÏ´Â ÇϳªÀÇ ºûÀ» ¹æÃâÇØ ÀÌ ºûÀÌ Æ¯Á¤ ÀüÀÚµéÀÇ
ÆÄµ¿À» ÅëÇØ Åë°úµÈ´Ù. À̶§ ÀüÀÚ ÆÄµ¿µéÀÇ ÇüÅÂ¿Í ¿òÁ÷ÀÓÀº ÀüÀûÀ¸·Î ±× ±Ý¼Ó¹°ÁúÀÇ
¼ºÁú¿¡ ÀÇÇØ °áÁ¤µÇ´Âµ¥, ´õ¿í ÀÛ°í, ¾ã°í, ³ª³ë±¸½½ÀÇ ÀÔÀÚÀÏ ¼ö·Ï ±× ¼ºÁúÀº
´õ¿í µ¶Æ¯ÇÏ´Ù. ¿¹¸¦ µé¾î ÀÏ¹Ý ±¤ÇÐ °áÁ¤Ã¼µéÀº ƯÁ¤ ±¤ÀÚ´Â Åë°ú½ÃŰ°í ´Ù¸¥
±¤ÀÚµéÀº ¸·´Â´Ù. µû¶ó¼ »õ·Î¿î ¸ÞŸ¹°Áú(Metamaterials, ÀÏ¹Ý ¹°Áú°ú´Â ÀüÇô
´Ù¸¥ ¼ºÂ¡À» º¸ÀÌ´Â ¹°Áú)À» ÀÌ¿ëÇØ »õ·Î¿î ±¤ÇÐ °áÁ¤Ã¼¸¦ ¸¸µé¸é ÇöóÁî¸ó
ÇüÅ¿¡¼ ºû¿¡ Æ÷ÇÔµÈ ¿¡³ÊÁöÀÇ È帧À» ¿øÇÏ´Â ´ë·Î Á¶ÀýÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù.
[±×¸² : Å×¶óÇïÃ÷ÆÄ ÇÊÅÍ(T-Ray filter). Å×¶óÇïÃ÷ÆÄ(Terahertz radiation)´Â
±Ý¼Ó¹°Áú ³»ÀÇ ÀüÀÚµéÀ» ÅëÇØ Åë°úÇÑ´Ù. ±Ý¼Ó¹°Áú ½ÃÆ®¿¡ Å×¶óÇïÃ÷ÆÄ¸¦ ½îÀ̸é,
±Ý¼Ó ¹°Áú ½ÃÆ® ³»ÀÇ ±¸¸Û ÁÖÀ§¿¡ ÀüÀ򮀵éÀÌ ¿øÀ» ±×¸®°í, ±× ´ÙÀ½ ÀüÀÚµéÀº
ȸÀýÇѰ踦 ³Ñ¾î ÃÊÁ¡ÀÌ µÇ´Â ÇϳªÀÇ ºûÀ» ¹æÃâÇØ, ÀÌ ºûÀº ÀüÀÚ ÆÄµ¿ÀÇ Æ¯Á¤
Á֯ļö¿¡ µû¶ó ³ª´©¾î Åë°úµÇ¹Ç·Î, ¿©±â¿¡ ´Ù¾çÇÑ Á¤º¸µéÀ» ¿£ÄÚµù(encoding)ÇÏ¿©
¹«¼± Åë½Å¸Á¿¡ »ç¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. µû¶ó¼ ¹«¼± Åë½ÅÀÇ ¿ë·®À» ±âÁ¸º¸´Ù 1,000¹è
ÀÌ»ó ³ôÀÏ ¼ö ÀÖ´Ù. Credit: Bryan Christie]
[Âü°í]
[INT
& BNT À¶ÇÕ±â¼ú, Å×¶óÇïÃ÷ÆÄ Æ©´×Çϱâ(Tuning Terahertz). ´Ü°Å¸®¿¡¼ »ç¿ëÇÒ
¼ö ÀÖ°í, ¿¡³ÊÁö°¡ ¾ø¾î ÀÎü¿¡ ¹«ÇØÇÑ, ±âÁ¸ÀÇ X-¼±º¸´Ù ´õ¿í °í¼±¸íÀÇ ¿µ»óÀ»
ÂïÀ» ¼ö ÀÖ´Â, ±×¸®°í ±âÁ¸ÀÇ ¹«¼± ÀüÀ򮀼¸´Ù ´õ¿í ºü¸¥ ±ØÃʰí¼ÓÀÇ ¹«¼± Åë½Å(ultrafast
wireless communication)À» °¡´ÉÄÉ ÇÏ¿© ¿À´Ã³¯ÀÇ ¹«¼± ½ÅÈ£º¸´Ù ¼öõ ¹è ÀÌ»óÀÇ
Á¤º¸¸¦ ½Ç¾î ³ª¸¦ ¼ö ÀÖ´Â Å×¶óÇïÃ÷ÆÄ¿¡ µµÀü, ¹Ì±¹ ·Î½º¾Ë¸ð½º¿¬¹æ¿¬±¸¼Ò(LANL),
º¸½ºÅæÄø®Áö(Boston College) ¹× º¸½ºÅæ´ëÇÐ(Boston University)ÀÇ °úÇÐÀÚµé,
Å×¶óÇïÃ÷ Æ©³Ê(Terahertz tuner) ¹ß°ß, 2008³â 4¿ù 13ÀÏÀÚ Nature Photonics
Áö ¿Â¶óÀÎÆÇ¿¡ "Experimental demonstration of frequency-agile terahertz
metamaterials(¹ÎøÇÑ Å×¶óÇïÃ÷ÆÄ ¸ÞŸ¹°ÁúÀÇ ½ÇÇèÀû µ¥¸ð)¶ó´Â ³í¹®À¸·Î ¹ßÇ¥(A
new device gives researchers unprecedented control over an unwieldy part
of the spectrum(30/Apr/2008), 02464-NBIT]
['½ÅºñÀÇ
ÀüÀÚ±âÆÄ' ½Ç¿ëÈ Çѱ¹ÀÌ ¾Õ´ç°å´Ù. ¼¿ï´ë ¿¬±¸ÆÀ, 4¼¼´ë Á֯ļö ¡®Å×¶óÇïÃ÷ÆÄ(§Ø)¡¯
¿¬±¸°á°ú ¹ßÇ¥. Á֯ļö ±â°¡ÇïÃ÷ÆÄ(GHz)ÀÇ 1õ ¹è, ÇâÈÄ »ý¸í°øÇÐ ¹× Åë½Å±â¼ú
Ȱ¿ë¿¡ ¹«±Ã¹«Áø, Å×¶óÇïÃ÷ÆÄ´Â Åõ°ú¼º(÷âΦàõ)ÀÌ ¶Ù¾î ³ª¹Ç·Î ½Ç¿ëȵÉ
°æ¿ì ¿¢½º·¹ÀÌ(X-Ray) ÃÔ¿µÀ̳ª ÀÚ±â°ø¸í´ÜÃþÃÔ¿µ(MRI) µî¿¡ ÀÇÁ¸ÇÏ´ø ±âÁ¸ÀÇ
º´¸®Á¶Á÷ Áø´ÜÀÌ ÇÑÃþ Á¤±³ÇÏ°í ¾ÈÀüÇØÁú °ÍÀ¸·Î ±â´ë(16/Oct/2007), 02352-TRM]
3. UC ¹öŬ¸®´ë, ÇöóÁî¸ó ½Ä°¢±â¼ú(Plasmonic lithography)¿¡ µµÀü
ºûÀ» ÆÄÀåÀ¸·Î Àüȯ½ÃŰ´Â ¼ÒÀ§ ÇöóÁî¸óÀ» ÀÌ¿ëÇØ ºûÀÇ È¸ÀýÇѰ踦 ±Øº¹ÇÏ´Â
±â¼ú¿¡ µµÀüÇÏ´Â »ç·Ê°¡ ÀÖ´Ù. ¹Ù·Î ÇöóÁî¸ó ½Ä°¢±â¼ú(Plasmonic lithography)·Î,
ÇöóÁî¸ó Çö»óÀ¸·Î »ý¼ºµÈ º¹»ç(ÀüÀÚÆÄ)¸¦ ÀÌ¿ëÇØ ÇϳªÀÇ ¹°Áú¿¡ ƯÁ¤ ±â´ÉÀ»
½Ä°¢(carve)ÇÏ´Â ±â¼ú·Î, ÀÌ´Â ÇâÈÄ ±¤ÇÐ ÀúÁ¤¸Åü³ª ±¤ÇÐ ÄÄÇ»ÆÃ¿¡ ÀÏ´ë Çõ¸íÀ»
¿¹°íÇØ, ±Ø´ë¿ë·® DVDs³ª ÆÄ¿ì¾îÇÃÇÑ ¸¶ÀÌÅ©·ÎÇÁ·Î¼¼¼°¡ µîÀåÇÏ°Ô µÉ °ÍÀ¸·Î
º¸ÀδÙ.
¹Ì±¹ University of California, BerkeleyÀÇ ¿¬±¸¿øµéÀÌ ÀÌ¿¡ µµÀüÇϰí Àִµ¥,
À̵éÀº ÇöóÁî¸ó ·»Áî(plasmonic lens) ÇÁ·ÎÅäŸÀÌÇÁ¸¦ °³¹ßÇØ ½Ä°¢ ´ë»óÀÇ
¹°ÁúÀ» °¡Àå ±ÙÁ¢ÇϰÔ(very colse) º¸°Ô ÇÔÀ¸·Î½á ±×°£ Á¸ÀçÇß´ø ÇöóÁî¸ó ½Ä°¢±â¼úÀÇ
ÇѰ踦 ±Øº¹Çϰí ÀÖ´Ù. ÇöóÁî¸ó ·»Áî·Î ȸÀýÇѰ踦 ±Øº¹ÇÏ¸é »ç¿ëÇÏ´Â ºûÀÇ
1/2 ÆÄÀ庸´Ù ´õ¿í ÀÛÀº ¹°Ã¼¸¦ º¼ ¼ö ÀÖÀ¸¹Ç·Î ±âÁ¸¿¡ º¼ ¼ö ¾ø¾ú´ø ¹°ÁúÀÇ
ÀÛÀº ºÎºÐÀ» º¼ ¼ö ÀÖÀ¸¹Ç·Î ±× ¹°Áú¿¡ ´Ù¾çÇÑ ½Ä°¢ »Ó ¾Æ´Ï¶ó ÃøÁ¤ ¹× ±âŸ
ÀÛ¾÷ÀÌ °¡´ÉÇÑ °ÍÀÌ´Ù.
ÀÌ ºÐ¾ß¿¡ ´ë°¡ÀÎ ±â°è°øÇаúÀÇ Xiang
Zhang°ú David Bogy°¡
À̲ô´Â ¿¬±¸ÆÀÀº ¼ÒÀ§ À̵éÀÌ ¸»ÇÏ´Â ÇϳªÀÇ ³¯¾Æ ´Ù´Ï´Â ÇöóÁî¸ó ·»Áî(a flying
plasmonic lens)¸¦ °³¹ßÇߴµ¥, ÀÌ´Â ºûÀ» ÁýÁß½ÃŰ´Â ºû ÁýÁ߱⠾ÀÌ(an
array of light concentrators)·Î, 20³ª³ë¹ÌÅÍ Å©±â(a height of only 20 nanometers)¿¡
ºÒ°úÇÑ ÇϳªÀÇ Ç¥¸é(a surface)À» ÅëÇØ ºûÀÌ Åë°úÇÏ´Â °ÍÀÌ´Ù. ÀÌ ºû ÁýÁß±â´Â
Àº ¹Ú¸·(a thin film of silver) À§¿¡ ÁýÁß½ÃŰ´Â ¿ø(circles) ÇüÅ·ΠÆÐÅÏȵǾî
ÀÖ¾î, ¿©±â¿¡ ÇϳªÀÇ ·¹ÀÌÀú¸¦ ½îÀÌ¸é ºû ÁýÁß±âÀÇ ÀüÀÚµéÀÌ Ç¥¸é¿¡¼ Áøµ¿(oscillate)ÇϰÔ
µÈ´Ù. Áøµ¿ÇÏ´Â ÀüÀÚµéÀº ±× ´ÙÀ½ ÇϳªÀÇ ºûÀ» ¹æÃâ(emit a type of radiation)Çϴµ¥,
ÀÌ ºûÀº ±âÁ¸ÀÇ ±¤Çбâ°èµéÀÌ °®°í ÀÖ´ø ȸÀýÇѰ踦 ³Ñ¾î¼± ´õ¿í ³¯Ä«·Î¿î ÃÊÁ¡À¸·Î
ƯÁ¤ ÀüÀÚ ÆÄµ¿¸¦ ÅëÇØ Åë°úÇϴµ¥, ·»Áî Ç¥¸éÀ¸·ÎºÎÅÍ Åë°úÇØ 100³ª³ë¹ÌÅͱîÁö¸¸
À̵¿ÇÏ°Ô µÈ´Ù.
 |
[±×¸² : ³¯¾Æ ´Ù´Ï´Â ·»Áî(As the lens flies). ÀÌ ½Ã¹Ä·¹À̼ÇÀº °íÇØ»óµµ
±¤ÇÐ ½Ä°¢(high-resolution optical lithography) ±â¼ú¿¡ ÇÊ¿äÇÑ ÇÁ·ÎÅäŸÀÌÇÁ
µð¹ÙÀ̽ºÀÇ ÁÖ¿ä ±¸¼º ¿ä¼ÒÀÎ ¸¶ÀÌÅ©·ÎÅ©±âÀÇ º£¾î¸µ ÁÖÀ§¿¡¼ ¾î¶»°Ô °ø±â°¡
¿òÁ÷ÀÌ´ÂÁö¸¦ º¸¿©ÁÖ°í ÀÖ´Ù. ºÓÀº ¼±Àº µð¹ÙÀ̽º ÁÖÀ§ÀÇ °ø±â È帧À» º¸¿©ÁÖ°í
Àִµ¥, °ËÁ¤ û»ö(dark blue)¿¡¼ ºÓÀº»öÀ¸·ÎÀÇ º¯È´Â °ø±âÀÇ ¾Ð·ÂÀÎ Àú->°í¾Ð·ÂÀ»
º¸¿©ÁØ´Ù. °ø±â¿¡ ÀÇÇØ ¶° ÀÖ´Â ·»Áî´Â ºû¿¡ ¹Î°¨ÇÑ ÈÇй°ÁúÀÌ ÄÚÆÃµÈ ÇϳªÀÇ
ȸÀüÇÏ´Â µð½ºÅ©ÀÇ 20³ª³ë¹ÌÅÍ °Å¸® ³»¿¡ Ç×»ó ÀÖµµ·Ï ÇØÁØ´Ù. Credit: Xiang
Zhang]
¿¬±¸¿øµéÀº ÀÌ ÇöóÁî¸ó ·»Á ÇϳªÀÇ µð¹ÙÀ̽º À§¿¡ ¿Ã·Á ³õ¾Ò´Âµ¥, ÀÌ´Â
¹Ù·Î ¼ÒÀ§ ¸»ÇÏ´Â °ø±â º£¾î¸µ(air bearings)À¸·Î »ç¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. ÀÌ µð¹ÙÀ̽ºÀÇ
ÇüÅÂ(the shape of the device)´Â µð¹ÙÀ̽º ¾Æ·¡¿¡ ÇϳªÀÇ °ø±â Äí¼Ç(a cushion
of air)À» ÀÏÀ¸ÄÑ Çü¼ºÅä·Ï Çϴµ¥, ÀÌ ¶§ ·»Áî´Â ÇϳªÀÇ ´ë»ó Ç¥¸éÀ¸·ÎºÎÅÍ
20³ª³ë¹ÌÅͱîÁö Á¢±ÙÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. À̵éÀÌ ¿¬±¸ÇÑ ³»¿ëÀº Nature Nanotechnology
2008³â 10¿ù 12ÀÏÀÚ ¿Â¶óÀÎÆÇ(AOP)¿¡ "Flying
plasmonic lens in the near field for high-speed nanolithography(°í¼Ó ³ª³ë½Ä°¢±â¼úÀ»
À§ÇÑ ±ÙÁ¢°Å¸®¿¡¼ ³¯¾Æ ´Ù´Ï´Â ÇöóÁî¸ó ·»Áî)"(Srituravanich & Zhang
et al., Nature Nanotechnology, 2008)1)¶ó´Â
³í¹®À¸·Î ¹ßÇ¥µÇ¾ú´Ù. ƯÈ÷ Çü¼ºµÈ °ø±â º£¾î¸µÀº ·»Áî·ÎºÎÅÍ 20³ª³ë¹ÌÅÍ ¶³¾îÁø
ÇϳªÀÇ ¿ø¹Ý µð½ºÅ©¸¦ ÃÊ´ç 4-12¹ÌÅÍ ¼Óµµ·Î ȸÀüÇÏ°Ô ÇÑ´Ù´Â °ÍÀε¥, ÀÌ´Â
¹Ù·Î À½¹Ý ·¹ÄÚµå À§¿¡ ÀÖ´Â ¹Ù´ÃÀ» Àâ°í ÀÖ´Â ÆÈÀ» ±× ¸¸Å Á¶ÀýÀÌ °¡´ÉÇÏ´Ù´Â
¾ê±âÀÌ´Ù.
1) Srituravanich, Werayut, Liang
Pan, Yuan Wang, Cheng Sun, David B. Bogy & Xiang Zhang, "Flying plasmonic
lens in the near field for high-speed nanolithography(°í¼Ó ³ª³ë½Ä°¢±â¼úÀ»
À§ÇÑ ±ÙÁ¢°Å¸®¿¡¼ ³¯¾Æ ´Ù´Ï´Â ÇöóÁî¸ó ·»Áî)", Nature Nanotechnology,
Published online: 12 October 2008, Corrected online: 4 November 2008,
doi:10.1038/nnano.2008.303.
4. Æò°¡¿Í ±â´ë
Harvard UniversityÀÇ ÀÚ¿¬°úÇкΠKenneth
Crozier ±³¼ö´Â ÀÌ¿¡ ´ëÇØ ¹öŬ¸®ÀÇ °ø±â º£¾î¸µ ±â¼úÀº ¿À´Ã³¯ ÇöóÁî¸ó
±â¼úÀÌ °®°í ÀÖ´ø ±â¼úÀû ÇѰè Áß Çϳª¸¦ ±Øº¹ÇÑ ¸ÚÁø ±â¼úÀ̶ó°í ĪÂùÇÑ´Ù.
Áö³ ¼ö ³â°£ Crozier ±³¼ö¿Í µ¿·áµéÀº ÀÌ¿¡ µµÀüÇßÀ¸³ª ½ÇÁ¦ÀûÀÎ ±ÙÁ¢ °Å¸®±îÁö
Á¢±ÙÇÏÁö ¸øÇÏ°í ¸ðµÎ ½ÇÆÐÇß¾ú´Ù. µû¶ó¼ ¹öŬ¸®ÀÇ µð¹ÙÀ̽º´Â ½Ä°¢ »Ó ¾Æ´Ï¶ó
¹°Ã¼ÀÇ ½ºÄ³´×±îÁö °í¼ÓÀ¸·Î ó¸®ÇÒ ¼ö ÀÖÀ» °ÍÀ¸·Î ±â´ëÇϰí ÀÖ´Ù.
¹öŬ¸®°¡ °³¹ßÇÑ ÇöóÁî¸ó ·»Áî ÇÁ·ÎÅäŸÀÌÇÁÀÇ ½ºÇǵå¿Í Á¤¹Ðµµ°¡ ¾î´À
Á¤µµ µÇ´ÂÁö ÁüÀÛÇÏ·Á¸é ºñÇà±âÀÎ Boeing 747·Î ºñ±³Çغ¸¸é µÈ´Ù. ÀÌ µð¹ÙÀ̽ºÀÇ
Á¤È®µµ´Â ¹«·Á ³¯¾Æ°¡´Â 747 ºñÇà±â°¡ ¶¥¿¡¼ 2¹Ð¸®¹ÌÅͱîÁö ¶° ÀÖ´Â »óűîÁö
º¼ ¼ö ÀÖ´Â Á¤¹ÐµµÀÌ´Ù.
5. ±âÁ¸ÀÇ ·¹ÀÌÀú ½Ä°¢, ±ØÀڿܼ± ½Ä°¢, ÀüÀÚ ºö ½Ä°¢°úÀÇ ºñ±³ ºÐ¼®
ÇöóÁî¸ó ½Ä°¢±â¼úÀº 20³ª³ë¹ÌÅÍ ÀÌÇÏÀÇ ½Ä°¢¿¡ ÇÊ¿äÇÑ ÃÖÀûÀÇ ±â¼úÀÌÀ̶ó°í
Advanced Lithography Center at the University of Albany's College of Nanoscale
Science and EngineeringÀÇ ¼ÒÀåÀÎ John
Hartley´Â ¸»ÇÑ´Ù. ±âÁ¸ÀÇ ±¤ÇÐ ½Ä°¢(optical lithography)¿¡¼´Â ºûÀÌ
¿øÆÇ ÇüÅÂ(a type of stencil)ÀÇ ÇϳªÀÇ ¸¶½ºÅ©(a mask)¸¦ ÅëÇØ ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ
°°Àº ÇϳªÀÇ ¹°Áú¿¡ ½î¿©Áø´Ù. ÀÌ ¶§ ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛ¿¡´Â Æ÷Å丮ÁöÆ®(Photoresist)¶ó
ºÒ¸®´Â ºû¿¡ ¹Î°¨ÇÑ ÈÇÐ󸮰¡ ÄÚÆÃµÇ¾îÁ® ÀÖ´Ù. µû¶ó¼ Æ÷Å丮Áö½ºÆ®´Â ºûÀÌ
¾îµð¿¡ ¿Í¼ ´êµçÁö, ´ê´Â °÷ ¸¶´Ù ´Û¾Æ ¾ø¾Ö°í ±× ´ë½Å ¸¶½ºÅ© ÆÐÅÏÀ» »ý¼ºÇØ
³½´Ù. ±×·¯¹Ç·Î ªÀº ºûÀÇ ÆÄÀåÀ» ÀÌ¿ëÇÏ¸é º¸´Ù ¼±¸íÇÑ ±â´ÉÀ» ½Ä°¢ÇÒ ¼ö ÀÖÀ¸³ª
½ÇÁ¦ÀûÀ¸·Î´Â ºÒ°¡´ÉÇÏ´Ù°í ZhangÀº ¸»ÇÑ´Ù. ±× ÀÌÀ¯´Â ªÀº ºû ÆÄÀåÀº °í¿¡³ÊÁö¸¦
°®°í ÀÖ¾î À̸¦ »ý»êÇØ ³»´Â °í°¡ÀÇ ·¹ÀÌÀú°¡ ÇÊ¿äÇϰí, ±ØÀڿܼ±(extreme ultraviolet
light)ÀÇ °æ¿ì À̸¦ »ý»êÇØ ³»´Â ±¤°¡¼Ó±âÀÎ ½ÌÅ©·ÎÆ®·Ð(synchrotron)ÀÌ ÇÊ¿äÇÏ´Ù.
ÀüÀÚ ºö°ú °°Àº ´Ù¸¥ ±â¼úµéÀº ¸¶½ºÅ© ¾øÀÌ ±â´ÉµéÀ» Á¤È®ÇÏ°Ô ½Ä°¢ÇÒ ¼ö ÀÖÀ¸³ª,
¹®Á¦´Â °øÁ¤ÀÌ ´À¸®´Ù´Â ´ÜÁ¡ÀÌ ÀÖ´Ù.
µû¶ó¼ ¹öŬ¸®ÀÇ ³¯¾Æ ´Ù´Ï´Â ·»Áî´Â À̵麸´Ù ´õ¿í ºü¸£°í, ¾ÕÀ¸·Î ´õ¿í
ºü¸¦ °ÍÀε¥, ¿¹¸¦ µé¾î À̹ø¿¡ ¸¸µç ÇöóÁî¸ó ·»Áî¿¡´Â ÇöóÁî¸ó ·»Áî°¡ 16°³
µé¾î°¡ ÀÖÁö¸¸ À̸¦ 100,000°³·Î ´Ã¸± °æ¿ì ±× ¼Óµµ´Â ¾öû³¯ °ÍÀ¸·Î º¸°í ÀÖ´Ù.
6. Á¤¸» ½Ç¿ëÀûÀΰ¡, ÇâÈÄ ¿¬±¸ °úÁ¦
ÇöÀç À̵éÀº ÀÌ ±â¼úÀ» ÀÌ¿ëÇØ 80³ª³ë¼±À» ¿¡ÄªÇÏ´Â °ÍÀ» µ¥¸ðÇÏ¿´´Ù. ÀÌ´Â
ÇöÀç ÷´Ü ±â¼úº¸´Ù ´Ù¼Ò ³ÐÀº ½Ä°¢ ±â¼úÀÌ´Ù. ±×·¯³ª ÀÌ¿¡ ´ëÇØ ZhangÀº ½ÇÁ¦·Î
°Å¸®-Á¦¾î ½Ã½ºÅÛ(distance-control system)ÀÌ °¡Àå ¾î·Á¿î ºÎºÐÀ̶ó°í ¸»ÇÑ´Ù.
µû¶ó¼ ¸¸¾à ÁýÁßÀÌ º¸´Ù ´õ ¼¼¹ÐÇÏ°Ô µÇ¸é ÀÌ´Â ÀÌ ±â¼úÀÇ ÇØ»óµµ¸¦ ³ô¿© ÁÙ
°ÍÀÌ´Ù.
°íÇØ»óµµ ºöÀº 6³ª³ë¹ÌÅÍ Á¤µµÀÇ ±â´ÉµéÀ» ÇØ°áÇÏ´Â »õ·Î¿î Æ÷Å丮Áö½ºÆ®
±â¼úÀÌ ³ª¿ÀÁö ¾Ê´Â ÇÑ ¾µ¸ð°¡ ¾ø´Ù. ÇöÀç ½ÃÀå¿¡ ³ª¿ÍÀÖ´Â Æ÷Å丮Áö½ºÆ®µéÀº
³ÐÀº ºö¿¡ ÀÛµ¿µÇµµ·Ï µðÀÚÀεǾî ÀÖ´Ù. µû¶ó¼ ZhangÀº ¾ÕÀ¸·Î ÈÇÐÀÚµé°ú
Çù·ÂÇÏ¿© ÀÌ ¹®Á¦¸¦ ÇØ°áÇϴµ¥ ¿¬±¸¸¦ ÁýÁßÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù.
7. ÀÀ¿ë ºÐ¾ß
À̹ø¿¡ °³¹ßµÈ ÇöóÁî¸ó ·»Áî´Â ½Ä°¢ ±â¼ú ºÐ¾ß »Ó ¾Æ´Ï¶ó °íÇØ»óµµ ¿µ»ó
À̹Ì¡¿¡µµ Àû¿ëÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. "¸¸¾à ¿ì¸®°¡ 50³ª³ë¹ÌÅ͸¦ ÇÁ¸°Æ® ÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù¸é
¿ì¸®´Â 50³ª³ë¹ÌÅÍÀÇ ¿µ»óÀ» º¼ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù"¶ó°í ZhangÀº ¸»ÇÑ´Ù. ³¯¾Æ ´Ù´Ï´Â
·»Áî´Â ¶ÇÇÑ Ç°ÁúÀ» °Ë»çÇϰųª Ç¥¸éÀ» ½ºÄ³´×Çϴ Žħ(probe)À¸·Îº¸µµ »ç¿ëÇÒ
¼ö ÀÖ´Ù. ÄÄÇ»ÅÍ Ä¨À̳ª ¹ÙÀÌ¿À À̹Ì¡ ±â¼úÀÇ Ç°Áú »Ó ¾Æ´Ï¶ó ºÐÀÚ ¼öÁØ¿¡¼
»ì¾Æ ÀÖ´Â ¼¼Æ÷µéÀ» Á÷Á¢ °üÂû ÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù.
ZhangÀº Á¶¸¸°£ ÀÌ ±â¼úÀ» º°µµÀÇ ±â¾÷À» ¸¸µé¾î »ó¿ëÈÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù. ¶ÇÇÑ
¹ÝµµÃ¼ ±â¾÷µé°ú ´Ù¾çÇÑ Àû¿ëÀ» À§ÇØ Çù»óÇϰí ÀÖ´Ù.
[¼Ò½º]
[Technology
Review-Waves of Electrons(Nov/Dec 2008)]
[Technology
Review-Lithography Past Light's Limits(07/Nov/2008)]
|